| bargesst | Дата: Среда, 09.07.2008, 17:09 | Сообщение # 1 |
| |
 |
| Модератор игрового форума |
| |
| Группа: BAN |
| Сообщений: 227 |
|
« » |
| |
Статус:  |
| |
|
В конце 90х годов ученые считали, что глубокая ультрафиолетовая литография (deep-ultraviolet) исчерпает себя в 2003 году. Как мы знаем, этого не случилось. Существующие оптические методы позволяют дальнейшую миниатюризацию кремниевых микрочипов. Ученые из Массачусетского Технологического Института (Massachusetts Institute of Technology, MIT) представили миру 25-нанометровый техпроцесс на основе достаточно простой голографической литографии. В то же время производители работают над еще более сложным, 22-нанометровым техпроцессом – миниатюрные чипы на основе 22 нм уже показала IBM, кипит работа Intel на фабрике в штате Орегон, США. Однако, гиганты индустрии думают в несколько иной плоскости. Техпроцесс от MIT подойдет для производства чипов памяти, солнечных ячеек для соответствующих аккумуляторов и так далее. 
|
| |
|
|
